VENN桃太郎半導體流體閥高潔凈度

產品簡介
VENN桃太郎半導體流體閥高潔凈度
VENN 桃太郎半導體 SL-38 流體閥，是專為半導體制造高潔凈需求設計的精密控制設備，憑借嚴苛的潔凈工藝與材質選擇，可滿足半導體晶圓清洗、光刻膠涂覆、高純氣體輸送等核心環節的流體控制需求，為半導體生產的潔凈環境提供可靠保障。?
在高潔凈度實現上，該閥門從材質到工藝全程對標半導體行業標準：閥體采用 316L 不銹鋼材質，經電解拋光處理，表面粗糙度 Ra≤0.

產品型號：SL-38

更新時間：2025-12-02

廠商性質：經銷商

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品牌	VENN/閥天桃太郎	應用領域	環保,化工,能源,鋼鐵/金屬,綜合

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VENN 桃太郎半導體 SL-38 流體閥，是專為半導體制造高潔凈需求設計的精密控制設備，憑借嚴苛的潔凈工藝與材質選擇，可滿足半導體晶圓清洗、光刻膠涂覆、高純氣體輸送等核心環節的流體控制需求，為半導體生產的潔凈環境提供可靠保障。

在高潔凈度實現上，該閥門從材質到工藝全程對標半導體行業標準：閥體采用 316L 不銹鋼材質，經電解拋光處理，表面粗糙度 Ra≤0.2μm，有效減少流體滯留死角，避免雜質吸附；密封件選用全氟醚橡膠（FFKM），具備優異的耐化學腐蝕性與低析出特性，長期接觸高純試劑（如氫氟酸、異丙醇）無微粒脫落，符合 SEMICON F47 潔凈標準，可適配 Class 1 級潔凈車間使用。同時，閥門內部流道采用流線型設計，無直角拐彎與臺階結構，流體通過時無湍流產生，減少因流道不規則導致的雜質堆積，進一步保障傳輸介質潔凈度。

性能上，SL-38 流體閥兼具精準控制與穩定運行優勢：采用先導式啟閉結構，響應時間≤0.1 秒，可實現高頻次精準通斷，適配半導體生產中流體劑量控制需求；調壓范圍覆蓋 0.05-1.0MPa，能穩定適配高純氮氣、氧氣等半導體制造常用氣體，以及光刻膠、顯影液等液體介質傳輸，且泄漏率≤1×10??Pa?m3/s，避免介質交叉污染。此外，閥門采用無油潤滑設計，杜絕傳統潤滑油脂可能帶來的微粒污染，后期維護時僅需常規清潔，無需拆解復雜部件，減少潔凈車間內的維護污染風險。

應用場景方面，其廣泛適用于半導體晶圓清洗設備（如單片清洗機流體控制）、薄膜沉積工藝（CVD 設備高純氣體輸送）、光刻工序（光刻膠精準分配）等環節。產品出廠前需經過 100% 氦質譜檢漏與潔凈度檢測，附帶詳細潔凈認證報告，安裝時可直接接入半導體自動化管路系統，無需額外潔凈處理，為半導體生產的高效、潔凈運行提供關鍵流體控制支撐。

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